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多晶硅酸洗设备清洗的主要过程,脱脂,钝化,干燥,等,是一个最关键的脱脂过程和干燥技术。单晶硅回收.太阳能硅片回收价格
油和水的多晶硅产品有巨大的影响。所以在多晶硅设备清洗、脱脂过程和干燥过程的观点。主要还原炉,氢炉,CDI清洗设备,合成车间,减少氢化车间、蒸馏系统,中间罐、管道等主要设备。为了保证脱脂和干燥质量,多晶硅设备清洗需要一个单一的设备清洁和接受,然后安装。苏州硅回收污垢对多晶硅主要因素的影响
1、油脂:多晶硅生产过程中,油分子多晶硅的危害非常严重。证明,整个过程系统可能导致一些PPM含油量的多晶硅缓慢的反应速度,降低生产、甚至硅反应停止。因此,多晶硅设备脱脂过程尤为重要。太阳能硅片回收工厂在苏州
2、水:水含有大量的氯离子,氯离子对多晶硅的反应很敏感。干燥过程是关键设备和系统。苏州半导体晶片回收工厂
3,其他解决方案和水的氯离子残留在设备表面残留氯离子的多晶硅影响非常大。因此,后水清洗装置清洗过程是非常重要的。半导体硅回收工厂 4、氧化灰尘和其他杂质,其他污垢的存在,对多晶硅的生产有很大的影响。因此,在设备清洗的过程中,酸洗过程对于其他污垢清洗是必要的。

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